与较慢的传统ALD方法相比,由于需要大型真空室,该方法在大规模生产和均匀性方面面临挑战,我们的技术方法速度快100倍,且无需真空环境即可操作。这项创新允许在几秒钟内处理单个晶圆,每小时可达成超过1万片晶圆,具有更优越的性能和减少的前驱体浪费,从而降低了操作成本。此外,我们的技术促进了硅和氧化铝之间SiOx中间层的形成,进一步提高了电池效率。这一突破不仅提高了太阳能电池的性能,还提供了更大的处理灵活性和操作效率,显著降低了前驱体成本和维护费用
对光线透明但导电性像金属的材料对硅基太阳能电池和薄膜太阳能电池都至关重要。这些材料是透明的导电氧化物(TCO),常见的材料是氧化二锑(ITO)和氟掺杂的氧化锡(FTO)。
我们的技术能够快速沉积具有高透过率和电导率的 TCO。特别是,我们的系统可以在 CVD 模式下运行,从而实现更快的沉积,同时仍能保持高均匀性。使用我们的系统制造的三氧化碳与行业标准溅射沉积法制成的三氧化碳的质量数值相当,但资本强度明显降低,而且还减少了对光活性层的损坏。这可以实现更高的效率。
借助 我们的技术,我们还可以连续沉积到基板上,例如在玻璃制造线中,为薄膜太阳能电池或触摸屏显示器生产导电玻璃基板。
我们的技术集成到卷对卷处理系统中代表了在柔性基材上批量生产薄膜的重大进步。该应用对于扩大柔性电子和光伏电池的制造规模尤其重要,为通往更实惠和更容易获得的技术提供了途径。
我们的技术对于柔性电子组件(例如显示器、传感器和薄膜晶体管)的生产至关重要。该技术能够在低温下沉积均匀的保形涂层,对于处理可能被高温损坏的柔性基材至关重要。
我们的技术可以存入各种各样的 n-和 p-型氧化物半导体。此类材料可用作光伏、发光二极管、光电化学电池、忆阻器和薄膜晶体管中的活性层。我们的技术本质上与选择性区域沉积兼容,这为微电子的图案化和微型化提供了途径。
该技术为在包括金属、聚合物和光学元件在内的各种材料上涂覆保护涂层提供了先进的解决方案。这些涂层可以提高耐腐蚀性、耐磨性和阻隔性能,从而延长涂层产品的使用寿命和性能。
我们的技术用于制造具有特定光学特性的薄膜,例如用于镜头和显示器的抗反射涂层或用于先进光学设备的光子晶体。这样可以精确控制光线操作,这对于消费电子产品和专业光学设备都至关重要。
我们的技术用于通过沉积增强电极材料或用作固体电解质的薄膜来改善电池和超级电容器的性能和寿命。该应用是开发更高效、更可靠的储能解决方案的关键
通过沉积催化活性材料或支撑层,我们的技术有助于开发更有效的化学反应催化剂,包括用于燃料电池和工业过程的催化剂。该应用对于能量转换技术和可持续化学品制造非常重要。